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    项目概况：多腔式磁控溅射台及相关安装调试等服务，数量1台。该设备在150mm （6英寸）芯片制造中，实现对晶圆的溅射镀膜工艺。镀膜均匀性片内、片间、批间均匀性均优于±3%；刻蚀速率大于100A/Min，连续三批次（片量≥3）的片内、片间、批间均匀性优于±8%；薄膜应力的绝对值小于500MPa；平均晶粒尺寸不大于500nm，在波长436nm的绝对反射率优于65%，可通过尼康光刻机识别验证；溅射膜层（厚度3-5um）对深宽比在1~2之间的垂直沟槽可实现完全的底部填充，无空洞，膜层内部紧密连续，底部覆盖率大于100%且表面平坦；溅射腔漏率优于6000nT/min，极限真空优于2*10-8Torr。预清洗腔漏率优于5000nT/min，极限真空优于2*10-7Torr。loadlock腔漏率低于1mT/min，本底真空优于5*10-2Torr连续传片1000片，无碎片、无卡片、平边全部识别准确、无报错。

    设备交货期：合同签订后6个月。

    质保期：1年。

    本项目招标已委托江苏省设备成套股份有限公司代理，并在江苏省招标投标公共服务平台公开发布。具体报名资格要求、招标文件获取、联系方式等，请点击链接或下载附件阅览。

• 南京新工投资集团有限责任公司所需多腔式磁控溅射台及相关安装调试等服务项目-招标公告.pdf(点击下载)